用于纳米尺度下电学活动原位成像的系统。

一、设备亮点

将电学活动与高分辨率数据相关联

TEM中的电学分析在推动材料科学、纳米技术、器件开发和故障分析方面发挥着至关重要的作用，为纳米尺度材料和器件的行为与特性提供了深入的见解。

该系统是完全集成的软件控制系统，兼容所有带有外部扫描接口的TEM。得益于硬件和软件的整合，它能够放大、采集和分析所有电学信号。

优点：

➥ 采集系统兼容所有带外部扫描接口的TEM。

➥ 所有放大和采集设置由软件控制。

➥ 每个信号都会自动量化，并以电流值（µA, nA, pA）显示。

关键特点：

➥ 针对成像优化的快速放大。

➥ 广泛的增益范围，适用于所有技术。

➥ 微型化的样品台内电子设备。

➥ 自动信号路由。

该系统由硬件、软件和可选功能组成。

TEM中的电子束诱导电流（EBIC）

➥ 非弹性损失在薄片样品中诱导电子-空穴对

➥ 内部电场将电子和空穴分离

➥ 通过测量电流来获取EBIC STEM图像

内部电场

➥ 设备中的结和接触点分布
➥ 验证掺杂分布与设计的一致性
➥ 关联器件模型和参数

分析每层的电学特性

➥ 定位具有增加复合活性的位点
➥ 区分有电学活动和无电学活动的缺陷
➥ 配合高分辨率图像进行分析

基础物理参数测定

➥ 结点处的耗尽宽度
少数载流子的扩散长度
位错的复合强度

FIB样品筛选

➥ 应用标准的FIB工作流程进行原位电学测量
➥ 利用SEM中电学分析（EA）的宽视场选择目标
➥ 在SEM中验证薄片样品是否出现制备损伤

二、设备硬件

REVOLON TEM扫描控制器

➥ 集成扫描发生器和图像采集

➥ 大像素分辨率和高速扫描

➥ 第二级数字放大用于电学分析（EA）

➥ 同时输入BF、HAADF和电学分析（EA）信号

原位电学样品杆的电学分析（EA）电子设备

➥ 第一阶段模拟放大，确保最小噪声

➥ 广泛的增益范围，适用于所有电学分析技术和样品

➥ 内置电压偏置和电流补偿

➥ 自动信号路由，避免电气放电

➥ 可切换的低通滤波器用于信号过滤

➥ 自动零点调整

三、设备软件

➥ 集成软件用于图像采集和放大器控制

➥ 高级工具用于色彩混合、电流-电压（IV）扫描和线扫描

➥ 已校准图像数据的检查和导出功能

DIPS6 图像处理

➥ 专用软件用于图像数据的显示

➥ 检查元数据中的采集设置

➥ 提取定量像素值

扫描控制软件

➥ 开放且独立的扫描参数和硬件同步访问
➥ 实时图像显示，包含所有同步信号
➥ 高级扫描模式，包括亚像素扫描和切换扫描
➥ 与Python集成，实现远程网络控制