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SEM Mill 氩离子抛光仪

型号：1061

电磁聚焦离子枪设计
超宽加速电压范围（最高10keV），抛光效率高
最低100eV，修复后近乎无损
配备液氮冷台（可持续制冷超过18小时），去除热损伤
同时具备截面切割和平面抛光功能
可选配真空转移
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电磁聚焦离子枪设计 
超宽加速电压范围（最高10keV），抛光效率高 
最低100eV，修复后近乎无损 
配备液氮冷台（可持续制冷超过18小时），去除热损伤 
同时具备截面切割和平面抛光功能 
可选配真空转移 

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