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SEM Mill 氩离子抛光仪

型号:1061

电磁聚焦离子枪设计 
超宽加速电压范围(最高10keV),抛光效率高 
最低100eV,修复后近乎无损 
配备液氮冷台(可持续制冷超过18小时),去除热损伤 
同时具备截面切割和平面抛光功能 
可选配真空转移 
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  • 产品应用
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电磁聚焦离子枪设计 
超宽加速电压范围(最高10keV),抛光效率高 
最低100eV,修复后近乎无损 
配备液氮冷台(可持续制冷超过18小时),去除热损伤 
同时具备截面切割和平面抛光功能 
可选配真空转移 
应用更新中...
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